1.光刻工艺🦄开云彩票(中国)官方网站✔️为您提供近千场精彩体育盘口、电竞赛事，Kaiyun网址与APP里更有真人、彩票、棋牌、电子等游戏+多种娱乐投注方式，Kaiyun让您拥有完美游戏体验…

（1）集成电路制造历程复杂，光刻为其中要害一环

光刻（Lithography）是指在特定波长色泽的作用下，将盘算推算在掩膜版上的集成电路图形搬动到硅片表 面的光刻胶上的工夫工艺。为了完成图形搬动，需要经验千里积、旋转涂胶、软烘、瞄准与曝光、后烘、 显影、坚膜烘焙、显影检测等 8 说念工序，检测及格后赓续进行刻蚀、离子注入、去胶等智力，并视需要 重叠制程智力，建立芯片的“摩天大楼”。

（2）光刻中枢性位：1/2 的时刻+1/3 的本钱

跟着芯片工夫的发展，重叠智力数增多，先进芯片需要进行 20-30 次光刻，光刻工艺的耗时不错占到整 个晶圆制造时刻的 40%-50%，用度约占芯片坐蓐本钱的 1/3。

2.光刻机

（1）曝光开采愚弄等闲，光刻机频繁指用于芯片前说念工艺的光刻开采 泛半导体光刻工夫可分为直写光刻和掩模光刻，直写式光刻精度较低，多用于 IC 后说念封装、低世代线 平板暴露、PCB 等畛域；掩模光刻现在的主流形式为投影式，光刻精度高，可用于 IC 制造的前说念工艺、 后说念先进封装和中高世代线的 FPD 坐蓐。

（2）光刻机单机价值量高，生长千亿商场空间

2022 年天下晶圆前说念开采销售 941 亿好意思元，光刻机占 17%，是 IC 制造的第三掀开采，但却是单机价值 量最大的开采。据 ASML 财报测算，2022 年单台 EUV 价钱约 1.8 亿欧元，浸没式 DUV 约 6500 万欧 元。

3.光刻机工夫发展历程

光刻机的工夫演进主要分为以下几个阶段。

1）UV 光刻机：用于 0.25 微米及以上制程节点，UV 为紫外光，光源类型包括 g-line、i-line 等。

2）干式 DUV 光刻机：可用于 65nm-0.35μm 制程节点，干式 DUV 是指在光刻过程中使用干式透镜和 深紫外线光源，该工夫在 20 世纪 90 年代初得到了等闲愚弄。

3）浸入式 DUV 光刻机：可用于 7nm-45nm 制程节点，跟着芯片制造工夫对先进制程的需求捏续加多， 干式 DUV 光刻机已无法知足其精度条款。浸入式 DUV 光刻机通过把物镜与晶圆之间的填充由空气更动 为水，进而赢得更高的数值孔径（NA），使光刻机具有更高的辞别率与成像才调。

4）Low-NAEUV 光刻机：用于 3nm-7nm 制程节点，EUV 为极紫外光，该光源的波长较此前光源明

显减小，显赫普及光刻机的辞别率。

5）High-NAEUV 光刻机：用于 3nm 以下制程节点，High-NA 是指高数值孔径（0.33→0.55），是下 一代光刻机工夫，将在已有 EUV 基础上进一步提高辞别率与成像才调，从而结束更先进制成的坐蓐。

现时该工夫由阿斯麦公司研发中，公司预测在 2025 年结束出货。

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